臺積電日前表示，美國半導(dǎo)體公司STC.UNM針對公司的專利侵權(quán)指控是不實(shí)指控。 

 
　　STC.UNM是新墨西哥大學(xué)（UniversityofNewMexico）旗下一家負(fù)責(zé)技術(shù)轉(zhuǎn)讓的公司。 

　　臺積電在一份聲明中說，公司將積極應(yīng)訴，拒絕接受美國國際貿(mào)易委員會（U.S.InternationalTradeCommission）調(diào)查中的有關(guān)指控。 

　　STC在6月底針對臺積電提起訴訟，指控臺積電進(jìn)口有侵權(quán)行為產(chǎn)品的做法有違專利法的規(guī)定，屬不正當(dāng)競爭行為。

　
　　STC說，這項(xiàng)專利指的是微影制程技術(shù)（lithography)，該術(shù)主要用于半導(dǎo)體設(shè)備的制程微縮。

　
　　美國國際貿(mào)易委員會決定就此展開調(diào)查。

　
　　作為回應(yīng)，臺積電在聲明中稱，STC的指控沒有事實(shí)依據(jù)，并且相信美國國際貿(mào)易委員會不久在進(jìn)行調(diào)查后會發(fā)現(xiàn)公司并沒有侵犯任何專利權(quán)。